第25回未来科学オープンセミナー「半導体製造の歩留まり向上に必要なクリーン化技術とは ―半導体製造を支えるインフラ・ユーティリティー技術を中心に―」白井泰雪教授

未来科学オープンセミナー

半導体製造の歩留まり向上に必要なクリーン化技術とは
―半導体製造を支えるインフラ・ユーティリティー技術を中心に―

未来科学オープンセミナーでは、東北大学未来科学技術共同研究センターで行っている研究成果や独創的な開発研究を、オンライン配信によって分かりやすくご紹介いたします。
今回は、講演後にラボツアー(クリーンルーム見学)も開催します。

【プログラム】
15:00 配信開始
未来科学技術共同研究センター
教授 白井 泰雪
講演題目
半導体製造の歩留まり向上に必要なクリーン化技術とは
―半導体製造を支えるインフラ・ユーティリティー技術を中心に―
(講演の合間と終了後に質疑応答)
16:30 ラボツアー(クリーンルーム見学・10名まで)
17:30 終了

開催:令和6年7月26日(金)
時間:15:00~17:30
開催方式:オンライン視聴(講演のみ)または現地出席(先着10名様)
申込方法:こちらのページからご登録ください。
主催:東北大学未来科学技術共同研究センター(NICHe)
協賛:日本工学アカデミー東北支部・北海道支部

白井教授の研究と講演の内容
半導体製造には、半導体の微細化・高集積化のために、様々な分野の技術が必要となる。製造プロセスに使われる原材料としてはシリコンウェハ、ガス、薬品、レジ スト等があるが、その他にも製造装置には金属、セラミックス、石英、フッ素樹脂などが使われている。またこれらの研磨、焼成、成型、溶接等の加工技術、ヒータ、排気ポンプ、バルブ、流量制御器等の部品も使われている。このような様々な部品、材料、加工技術等に対して半導体分野特有ともいえる考え方が歩留まり向上のためのクリーン化技術すなわち汚染制御である。代表的な汚染は微粒子であるが、それ以外にも放出ガス、表面粗さ、耐食性、耐プラズマ性等、要求項目は多岐にわたる。
本セミナーではNICHe未来情報産業研究館が有する半導体製造の為のクリーンルーム施設・設備の紹介とクリーン化技術の考え方、研究開発事例等を説明する。