公募情報

革新的イメージセンサ・計測技術を基盤とした高精度半導体集積回路製造技術の開発 (黒田プロジェクト) 特任教授(研究)公募

2025年05月19日

〇募集職名:
特任教授(研究) 1名

 

〇勤務場所:
東北大学 未来科学技術研究センター 未来情報産業研究館
研究プロジェクト紹介:http://www.fff.niche.tohoku.ac.jp/
アクセス:http://www.fff.niche.tohoku.ac.jp/map.html

 

〇職務内容:
黒田プロジェクトでは世界最高水準のクリーンルーム施設を有する未来情報産業研究館を活用して、必要となるシステム、回路、デバイス、プロセス、装置、部品、材料、計測、インフラ・ユーティリティーのすべての開発を関連する企業との産学連携により同時並行的に推進しております。
今回主に下記の研究テーマに関する研究業績や関心をお持ちの方で精力的に取り組んで頂ける方を募集します。
➀シリコン半導体製造プロセス技術開発
➁シリコン半導体製造装置技術開発

 

〇応募資格:
➀博士号取得者
➁半導体電子工学に関する研究実績があり、本プロジェクトの推進に取り組んで頂ける方

 

〇雇用期間:
(雇用開始時期は応相談)~2026年3月31日
年度更新、任期あり(最大5年)

 

〇応募方法:
・➀~➄を個別のPDFファイルにして、下記の連絡先まで電子メール添付にてご応募ください。
➀履歴書(別紙様式1 本学所定書式)
➁調書および研究業績リスト(別紙様式2)
➂主要論文別刷5編
➃これまでの研究活動概要(1,000字程度)および本研究開発プロジェクトに際する展望(1,000字程度)(別紙様式3)
➄応募者の所見を伺える方(1名以上)の情報(氏名、所属、職位、電話、電子メールアドレス)(別紙様式4)

・提出先  niche.fffweb[at]grp.tohoku.ac.jp   [at]を@に変換してください
・提出期限 2025年7月22日(火)
適任者が見つかり次第、公募を締め切る場合があります。

 

〇選考方法
書類審査を行ったのち、面接審査を以って選考いたします。

 

〇採否の通知
受信後、14日以内にメールにて書類選考結果をお知らせします。
面接日時、方法については面接に進む方のみにご連絡します。

 

〇連絡先:
東北大学 未来科学技術共同研究センター 黒田プロジェクト 教授 白井泰雪
電子メール niche.fffweb[at]grp.tohoku.ac.jp   [at]を@に変換してください

公募情報詳細(こちらから
提出書類の様式(別紙様式1~4)はこちらからダウンロード願います。(ダウンロード