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窒化物半導体の結晶成長と光デバイス・電子デバイスの研究 Research on Crystal Growth, and Optical and Electrical Devices of Nitride Semiconductors

プロジェクト期間2023年4月1日~2026年3月31日
末光 哲也 特任教授 末光 哲也特任教授 Specially Appointed Prof. Tetsuya Suemitsu

研究の概要

デバイス創製を念頭に、材料研究を進めてきております。松岡隆志・東北大学名誉教授が1986年に提案した窒化物半導体は、既に青色LEDおよび携帯電話の基地局用トランジスタに使用されています。現在、窒化物半導体バルク結晶、各種基板上へのエピタキシャル成長技術、温度消光の小さい赤色LED、殺菌用波長220nmの高出力LED、および、ポスト5G用ミリ波帯以上の高周波動作可能な高効率・高出力トランジスタの開発を進めています。得られた成果については企業へ移転します。

研究の特色

  1. 研究開発のスタイル: 材料と、そのエピタキシャル成長から素子作製まで
  2. メンバー構成:材料屋からデバイス屋まで
  3. 保有装置: 材料・薄膜評価、有機金属気相成長、素子作製、および、素子評価
  4. メンバーの有する経験・技術
  • 現用光ファイバ通信用半導体レーザ
    世界初の室温連続発振、作製技術のメーカ移転、システム導入
  • 窒化物半導体InGaAlN
    青色発光ダイオード:InGaAlN提案、世界初の発光材料InGaN成長
    未踏終端材料InN:単結晶薄膜成長、バンドギャップ・エネルギを2eVから0.7eVへ修正
  • 世界最高速トランジスタ:高信頼化・高耐圧化・光素子との集積化。InP系高電子移動度トランジスタの遮断周波数記録を2度更新。

期待される成果・展開先

  1. 5G/6G基地局用“横型トランジスタ”
    携帯電話通信、自動車の双方向通信(connected car)等の先進通信技術
  2. 自動車用高出力・高耐圧“縦型トランジスタ”
    電気自動車のモータドライブにおいて冷却機構を必要とする現行のSi製素子を、冷却機構不要および回路の高効率化・小型化可能な素子へ
  3. GaN単結晶基板
    “縦型トランジスタ”用低価格大型GaN基板
  4. 窒化物半導体からなる赤色LED
    空冷を必要とする現行のInGaAlP系赤色LEDを置き換え、冷却機構不要の低価格・低消費電力フルカラーディスプレイの実現
  5. 高出力レーザダイオード
    銅などの金属溶接および青色による水中通信の実現
  6. 化合物半導体高周波素子
    300GHzを超えるテラヘルツトランジスタの実現。5G/6G向け通信機器用計測装置、放射線被爆のない・非破壊・保安検査を可能にするテラヘルツ光源へ応用
半導体立国日本、再び
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