窒化物半導体の結晶成長と光デバイス・電子デバイスの研究 Research on Crystal Growth, and Optical and Electrical Devices of Nitride Semiconductors
プロジェクト期間2023年4月1日~2026年3月31日

研究の概要
デバイス創製を念頭に、材料研究を進めてきております。松岡隆志・東北大学名誉教授が1986年に提案した窒化物半導体は、既に青色LEDおよび携帯電話の基地局用トランジスタに使用されています。現在、窒化物半導体バルク結晶、各種基板上へのエピタキシャル成長技術、温度消光の小さい赤色LED、殺菌用波長220nmの高出力LED、および、ポスト5G用ミリ波帯以上の高周波動作可能な高効率・高出力トランジスタの開発を進めています。得られた成果については企業へ移転します。
研究の特色
- 研究開発のスタイル: 材料と、そのエピタキシャル成長から素子作製まで
- メンバー構成:材料屋からデバイス屋まで
- 保有装置: 材料・薄膜評価、有機金属気相成長、素子作製、および、素子評価
- メンバーの有する経験・技術
- 現用光ファイバ通信用半導体レーザ
世界初の室温連続発振、作製技術のメーカ移転、システム導入 - 窒化物半導体InGaAlN
青色発光ダイオード:InGaAlN提案、世界初の発光材料InGaN成長
未踏終端材料InN:単結晶薄膜成長、バンドギャップ・エネルギを2eVから0.7eVへ修正 - 世界最高速トランジスタ:高信頼化・高耐圧化・光素子との集積化。InP系高電子移動度トランジスタの遮断周波数記録を2度更新。
期待される成果・展開先
- 5G/6G基地局用“横型トランジスタ”
携帯電話通信、自動車の双方向通信(connected car)等の先進通信技術 - 自動車用高出力・高耐圧“縦型トランジスタ”
電気自動車のモータドライブにおいて冷却機構を必要とする現行のSi製素子を、冷却機構不要および回路の高効率化・小型化可能な素子へ - GaN単結晶基板
“縦型トランジスタ”用低価格大型GaN基板 - 窒化物半導体からなる赤色LED
空冷を必要とする現行のInGaAlP系赤色LEDを置き換え、冷却機構不要の低価格・低消費電力フルカラーディスプレイの実現 - 高出力レーザダイオード
銅などの金属溶接および青色による水中通信の実現 - 化合物半導体高周波素子
300GHzを超えるテラヘルツトランジスタの実現。5G/6G向け通信機器用計測装置、放射線被爆のない・非破壊・保安検査を可能にするテラヘルツ光源へ応用

末光
松岡
未来科学オープンセミナーアーカイブ
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